Nanostrutturazione su larga area di substrati dielettrici trasparenti mediante litografia ottica interferenziale o mediante approccio auto-organizzato (Ion Beam Sputtering, IBS).

Amplificazione della raccolta di luce in dispositivi e materiali a film sottile e bidimensionali indotta da nanostrutturazione.

Crescita su larga area di semiconduttori bidimensionali (MoS₂) e loro funzionalizzazione ottica ed elettronica tramite nanostrutturazione.

Realizzazione di eterostrutture di van der Waals tra materiali bidimensionali (grafene-MoS₂).