Il sistema di evaporazione Kenosistec è in funzione presso DIFILab per tutti gli utenti. Il sistema è composto da una camera di processo cilindrica dotata di:
- Due magnetron sputtering con target da 2”
- Evaporazione a fascio elettronico (carosello rotante con fino a quattro crogioli).
- Cannone ionico per l’incisione dei campioni via sputtering.
- Riscaldamento del campione fino a 800 °C.
- Ingressi gas per Argon e Azoto o Ossigeno.
![Sistema deposizione Kenosistec](/sites/default/files/styles/mobile_x1_560px/public/page/sistema_deposizione_Kenosistec.jpg?itok=vuZ8ILz2)
Sistema deposizione Kenosistec
I processi di fabbricazione di campioni possono utilizzare anche:
- un plasma cleaner/etcher Gambetti Falcon, che può fornire sia un plasma di ossigeno per la pulizia dei campioni, che un plasma di argon o SF6 per l’incisione.
- una cappa chimica, dotata di spin-coater, piastra riscaldante, microbilancia e vasca ad ultrasuoni.
![Gambetti Falcon Plasma etcher/cleaner](/sites/default/files/styles/mobile_x1_560px/public/page/Gambetti_Falcon_Plasma_etcher_cleaner.jpg?itok=-Dr8Itla)
Gambetti Falcon Plasma etcher/cleaner