Crescita e fabbricazione di materiali

Il sistema di evaporazione Kenosistec è in funzione presso DIFILab per tutti gli utenti. Il sistema è composto da una camera di processo cilindrica dotata di: 

  • Due magnetron sputtering con target da 2” 
  • Evaporazione a fascio elettronico (carosello rotante con fino a quattro crogioli).
  • Cannone ionico per l’incisione dei campioni via sputtering.
  • Riscaldamento del campione fino a 800 °C.
  • Ingressi gas per Argon e Azoto o Ossigeno.
Sistema deposizione Kenosistec
Sistema deposizione Kenosistec

I processi di fabbricazione di campioni possono utilizzare anche:

  • un plasma cleaner/etcher Gambetti Falcon, che può fornire sia un plasma di ossigeno per la pulizia dei campioni, che un plasma di argon o SF6 per l’incisione.
  • una cappa chimica, dotata di spin-coater, piastra riscaldante, microbilancia e vasca ad ultrasuoni.
Gambetti Falcon Plasma etcher/cleaner
Gambetti Falcon Plasma etcher/cleaner